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上海微电子展出新一代前道干式光刻机平台模型

据IT之家11月8日报道，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）在第九届中国国际进口博览会上，展出了自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。该展会于11月5日在国家会展中心（上海）开幕，此次展出内容是我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。 模型采用透明剖视设计，展示整机光学光路与内部机电系统的链路布局。