据IT之家11月8日报道，上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）在第九届中国国际进口博览会上，展出了自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型。该展会于11月5日在国家会展中心（上海）开幕，此次展出内容是我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。
模型采用透明剖视设计，展示整机光学光路与内部机电系统的链路布局。报道介绍，该平台采用国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类技术路线，两者主要服务成熟制程。前道光刻机用于晶圆制造，与用于封装的后道光刻设备有所区别。
据报道介绍，平台的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统，以及高精度对准调平传感系统，均已实现全链条自主可控，并具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。
其中，双工件台的作用是让曝光与准备工作并行：一个工作台进行曝光，另一个同步完成曝光前的预对准准备。报道援引的测算称，双工作台系统可在保持速度和加速度稳定的前提下，将生产效率提升约35%。这一数字是对双工作台系统作用的测算，并非此次展出模型的实测结果。
产业应用方面，IT之家称，上海微电子是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商。报道同时表示，多台国产前道干式光刻机已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。这些运行数据针对国产前道干式光刻机，不能直接作为此次新一代平台已经量产交付的证明。