朗道燧岩的极紫外（EUV）光源系统样机在第二十六届中国国际工业博览会上首次亮相。据华尔街见闻10月14日转引的上观报道，现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，可用于芯片曝光测试。
这次展示的对象是EUV光源系统样机，而非整台光刻机。报道将极紫外光源称为高端光刻机的“心脏”：它是7纳米及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约我国高端芯片自主可控的关键环节。
现场工作人员称，该光源系统的技术路线与国际领先厂商一致，但目前距离量产还需3—5年。因此，90%的国产化率对应的是本次展出的光源系统，能够用于芯片曝光测试也不意味着已经量产。此次亮相呈现的是国产EUV光源从实验室走向产业化的阶段性进展。
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